半导体制造八大基本工艺
半导体制造八大基本工艺
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半导体制造的八大基本工艺:
一、晶圆制造

二、;ぞг餐饷驳难趸ひ

三、在晶圆上绘制电路的光刻工艺

四、半导体电路图形的完成-“刻蚀工艺”

五、沉积和离子注入工艺使半导体具有电特征

六、毗连电路的金属布线工艺

七、EDS工艺,为了成绩“完善”的半导体而举行的首次测试

八、组装和包装工艺

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