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芯片制造流程之晶圆的制备

宣布日期:2023-06-25 宣布者:尊龙凯时科技 浏览次数:4082

芯片制造流程之晶圆的制备

半导体工业的基础是硅元素,而自然界中硅含量最高、最容易获得的即是无限无尽的沙子(其主要化学因素为二氧化硅)。沙子是廉价的,可是将其转酿成腾贵的半导体级硅的历程无比重大。在芯片制造历程中,使用的硅一样平常是以硅晶圆(即圆形的硅片)的形式保存。

今天小编就给各人分享一篇关于芯片制造历程中晶圆制备的相关内容,希望能对您有所资助!

晶元洗濯.png

晶圆的制备分为四个阶段:

1、矿石到高纯气体的转变

在这一阶段中,硅矿石与化学物质爆发反应,形成硅化物气体,如四氯硅烷(SiCl4)或三氯硅烷(SiHCl3),而其他金属的氯化物则为固体,留在残渣中,从而完成了硅的提纯。

2、气体到多晶的转变

硅烷气体与氢气爆发反应,被还原成半导体级的硅,这样的硅纯度高达99.9999999%,是地球上最纯的物质之一。可是此时获得的硅是以多晶的形式保存。

晶圆的制备.jpg

3、多晶到单晶、掺杂晶棒的转变

芯片制造流程.jpg

在芯片中所需要的硅是单晶硅,因此需要将多晶硅转变为单晶硅。生长单晶硅一样平常有三种要领:直拉法、液体掩饰直拉法和区熔法。

芯片制造历程.jpg

晶圆制备.jpg

晶圆制造.jpg

4、晶棒到晶圆的制备

晶体从单晶炉里出来以后,首先会使用锯子锯掉首尾,然后在滚磨机上滚磨到合适的直径,在通过X射线定好晶向后,沿着其轴向滚磨出一个参考面。

晶圆棒.jpg

最后,使用有金刚石涂层的内圆刀片或者线切割把晶圆从晶体上切下来。接下来,将会使用磨片和化学机械抛光(CMP)的要领对晶圆外貌举行平整和抛光。晶圆在发货到客户之前可以举行氧化,氧化层用以;ぞг餐饷,避免在运输历程中的划伤和污染。

晶圆切割.jpg

以上是关于芯片制造流程之晶圆制备的相关内容了,希望能对您有所资助!

想要相识关于半导体洗濯晶圆洗濯的相关内容,请会见我们的“晶圆洗濯”专题相知趣关产品与应用 !

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