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半导体先进封装是什么

近些年,先进封装已经成为半导体中越来越普遍的主题,那么半导体先进封装是什么?首先要知道半导体封装是指将生产加工后的晶圆举行切割、焊线、塑封,使电路与外部器件实现毗连,并为半导体产品提供机械 ;,使其免受物理、化学等情形因素损失的工艺 。

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随着先进制程工艺逐渐迫近物理极限,包括台积电在内的厂商已经最先将研发偏向由先前的“怎样把芯片变得更小”转变为“怎样把芯片封得更小”,先进封装逐渐成为行业生长重点 。

现在半导体封装手艺正在从古板封装(SOT、QFN、BGA等)向先进封装(FC、FIWLP、FOWLP、TSV、SIP等)转型 。先进封装作为提高毗连密度、提高系统集成度与小型化的主要要领,在单芯片向更高端制程推进难度大增时,担负起延续摩尔定律的重任 。

自20世纪90年月中期之后,集成电路封装体的外观(形状、引脚样式)并未爆发重大转变,但其内部结构爆发了三次重大手艺刷新:引线键合(Wire Bonding)、倒装封(Flip Chip)和晶圆级封装(WLCSP,Wafer Level Chip Scale Package) 。

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封装手艺的生长史是芯片性能一直提高、系统一直小型化的历史 。凭证《中国半导体封装业的生长》,半导体封装手艺的生长历史可大致分为以下五个阶段:

第一阶段:20 世纪 70 年月以前(通孔插装时代),封装手艺是以 DIP 为代表的针脚插装,特点是插孔装置到 PCB 板上 。这种手艺密度、频率难以提高,无法知足高效自动化生产的要求 。

第二阶段:20 世纪 80 年月以后(外貌贴装时代),用引线替换第一阶段的针脚,并贴装到PCB 板上,以 SOP 和 QFP 为代表 。这种手艺封装密度有所提高,体积有所镌汰 。

第三阶段:20 世纪 90 年月以后(面积阵列封装时代),该阶段泛起了 BGA、CSP、WLP为代表的先进封装手艺,第二阶段的引线被作废 。这种手艺在缩减体积的同时提高了系统性能 。

第四阶段:20 世纪末以后,多芯片组件、三维封装、系统级封装最先泛起 。

第五阶段:21 世纪以来,主要是系统级单芯片封装(SoC)、微机电机械系统封装(MEMS) 。

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图片来自于国金证券

半导体先进封装的两个偏向:

1、小型化:3D封装突破古板的平面封装的看法,通过单个封装体内多次堆叠,实现了存储容量的倍增,进而提高芯片面积与封装面积的比值 。

2、高集成:系统级封装SiP能将数字和非数字功效、硅和非硅质料、CMOS和非CMOS电路以及光电、MEMS、生物芯片等器件集成在一个封装内,在不但纯依赖半导体工艺缩小的情形下,提高集成度,以实现终端电子产品的轻薄短小、低功耗等功效,同时降低厂商本钱 。

Chiplets——小芯片!现在也是各大厂商研发重点,将大筹码分成许多小筹码 。同样是高集成的解决计划 。

AMD 是这方面最受接待的例子,但这是整个行业的趋势 。AMD 可以设计 3 个芯片,一个CPU 焦点小芯片和2 个 IO 芯片 。这 3 种设计笼罩了很大一部分市场 。同时,英特尔设计了 2 个 Alder Lake 台式机芯片和 3 个 Ice Lake 效劳器芯片,以效劳于相同的潜在市场 。因此,AMD 可以节约设计本钱,制造比英特尔更多内核的 CPU,并节约收益本钱 。

小芯片(Chiplet)很棒,但它不是伶仃的解决计划 。也会遇到许多问题 。每个晶体管的本钱仍在上升,设计本钱飙升,由于需要更多 IO 来与其他芯片接口,小芯片被pad限制 。由于 IO 限制,部分芯片无法拆分,因此芯片尺寸仍在抵达峰值 。

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那么行业解决步伐是什么?

先进封装!

这就是我们要注重的地方,一些工具供应商将所有倒装芯片封装称为“先进封装” 。SemiAnalysis 和大大都业内下游人士不会这么说 。因此,我们将所有凸点尺寸小于100 微米的封装称为“先进” 。

最常见的先进封装种别称为扇出 。有些人会争辩说它甚至不是先进的封装,但那些人大错特错 。以Apple 为例,他们将让台积电接纳应用处置惩罚器芯片,并将其与 90 微米到 60 微米数目级的更麋集凸块封装到重组或载体晶圆/面板上 。与古板倒装芯片封装相比,凸点密度约莫横跨 8 倍 。

这种重组或载体晶圆/面板然后进一步睁开 IO,因此得名扇出 。然后将扇出封装毗连到主板 。硅芯片的设计可以镌汰对pad受限的担心,由于扇来由的pad较小 。该封装还可以封装 DRAM 内存、NAND 存储和PMIC 。集成扇出不但有利于密度,并且它们还在封装上保存了大宗的芯片间 IO 。不然,该 IO 将不得不以更大的IO 间距尺寸通过主板举行接口 。

集成扇出关于高性能应用程序变得越来越普遍,不但仅是移动应用程序 。增添最快的用例是在十多年来设计一直受到限制的事物的网络方面 。AMD 将在其效劳器 CPU 和 GPU中非 F鹁⒌亟幽缮瘸 。Tesla Dojo 1是集成扇出封装的另一个引人注目的例子,但在晶圆级 。SemiAnalysis透露,特斯拉将在宣布通告前使用这种包装类型 。

在先进封装中,有 2.5D 和 3D 封装 。2.5D 涉及封装在其他硅片上的硅片,但较低的硅片专用于布线,没有有源晶体管 。这通常以55 微米到 50 微米的间距完成,因此凸点密度横跨约 16 倍 。最常见和最高容量的用例是具有 TSMC CoWoS(基板上晶圆上芯片)的 Nvidia 数据中心 GPU 。台积电将有源芯片封装在只有互连和微凸点的晶圆上 。然后使用古板要领将这叠芯片封装到基板上 。

其他示例基本上包括每个带有 HBM 的处置惩罚器 。HBM 是作为一种蹊径函数增添内存带宽的要领而建设的,这种要领高于古板形式的 DRAM 。它通过使用更宽的内存总线来实现这一点 。这些宽总线会爆发与 IO 计数相关的问题,但 HBM 是重新最先设计的,以便在统一包内共存 。这倾覆了 IO 问题,同时也允许更细密的集成 。

2.5D 的更多示例包括基于Intel EMIB 的产品、Xilinx FPGA、AMD 最新的数据中心 GPU 和Amazon Graviton 3.

3D 封装将一个有源芯片封装在另一个有源芯片之上 。这最初是由英特尔提供的55 微米间距的逻辑硅片,但批量用例将是 36 微米或更小 。台积电和 AMD 将推出 17 微米间距的 3d堆叠 V-cache 。该手艺从凸块转移到硅通孔 (TSV),并且具有更大的扩展空间 。

索尼制造的 CMOS 图像传感器等其他应用已经接纳 6.3 微米间距 。为了继续举行较量,36 微米间距的凸块密度高 31 倍,以17 微米间距实现的铜 TSV 的 IO 密度高 138 倍,索尼的 6.3 微米间距的CMOS 图像传感器的 IO 密度高 567 倍标准倒装芯片 。

先进封装的泛起,让业界看到了通过封装手艺推动芯片高密度集成、性能提升、体积微型化和本钱下降的重大潜力 。现在,人工智能(AI)、高性能盘算、数据中心、自动驾驶汽车、5G都有先进封装的身影,应用领域逐渐扩大,各大厂商摩拳擦掌地为AI浪潮起劲地做准备,一场先进封装手艺竞赛已然拉开了帷幕 。


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